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芯片EDI超纯水系统-水质波动原因与解决措施
2026
08-23

芯片EDI超纯水系统-水质波动原因与解决措施

在芯片、微电子等高端制造领域,EDI超纯水设备是保障产品良率的核心环节。SEMIF-63标准要求产水电阻率稳定在18.2MΩ·cm,TOC<1ppb。然而,许多工厂在实际运行中常遇到EDI超纯水设备产水电阻率从18MΩ·cm莫名掉到15MΩ…
半导体超纯水设备-18.25MΩ·cm实现工艺标准详解
2026
08-22

半导体超纯水设备-18.25MΩ·cm实现工艺标准详解

信德水处理详解半导体超纯水设备实现18.25MΩ·cm出水的完整工艺标准,涵盖预处理、双级RO、EDI、抛光混床全流程。
微电子车间纯水处理设备预处理系统设计要点
2026
08-21

微电子车间纯水处理设备预处理系统设计要点

根据GB50685-2011《电子工业纯水系统设计规范》,纯水制备系统应由预处理、脱盐及深度处理和精处理三阶段组成,其中预处理阶段的水质必须满足脱盐装置进水水质的要求。对于设计院和工艺工程师而言,一套设计合理的预处理系统,直接决定了后续RO…
常州中瑞电子2t/h EDI高纯水设备-电阻率15兆欧交付
2026
08-21

常州中瑞电子2t/h EDI高纯水设备-电阻率15兆欧交付

信德水处理(苏州)有限公司为常州中瑞电子量身定制的2t/hEDI高纯水设备,已顺利发货。整套设备出水电阻率持续稳定≥15MΩ·cm,完全匹配电子元器件生产工艺用水标准,有效规避水质杂质引发的产品缺陷,为企业生产良率与产品可靠性筑牢水质基础。
选购指南-电子厂工业纯水设备采购避坑指南-分清设备高低配差异
2026
08-18

选购指南-电子厂工业纯水设备采购避坑指南-分清设备高低配差异

信德水处理为您解析电子厂工业纯水设备高低配差异,从工艺路线、EDI与混床对比到采购避坑要点,助您精准选型、避免踩坑。
二类医疗器械纯化水系统集中供水模式-GMP标准循环输送
2026
08-17

二类医疗器械纯化水系统集中供水模式-GMP标准循环输送

二类医疗器械生产企业对工艺用水有着严格的质量管控要求。一套设计合理的纯化水系统,不仅要产出符合中国药典2020版标准的纯化水,更需通过科学的集中供水模式,实现水质稳定、管理高效、运行节能的目标。
电子电池行业超纯水系统五种工艺路线对比-从传统混床到全膜法
2026
08-16

电子电池行业超纯水系统五种工艺路线对比-从传统混床到全膜法

电子、电池行业对生产工艺用水的纯度要求极高,一套设计合理的超纯水系统是保障产品品质、提升生产良率、降低制程瑕疵的核心关键。从早期传统的“预处理+混床”工艺,到如今主流的“二级RO+EDI+抛光混床”全膜法工艺,超纯水制备技术已历经多次技术迭…
二类医疗器械纯化水设备选型要点-满足中国药典2020版标准
2026
08-15

二类医疗器械纯化水设备选型要点-满足中国药典2020版标准

二类医疗器械行业对生产用水水质有着严格要求,必须符合中国药典2020版纯化水标准。一套合规的纯化水设备,不仅需要稳定产出达标水质,还需满足节水节电、运行成本低、管理方便等综合需求。
信德水处理全系列水处理设备获欧盟CE认证-品质接轨国际标准
2026
08-14

信德水处理全系列水处理设备获欧盟CE认证-品质接轨国际标准

信德水处理(苏州)有限公司迎来重磅资质喜讯:公司全系列成套纯水处理设备顺利通过欧盟CE认证,成功斩获ItercertGloal机构颁发的符合性验证(VOC)证书,证书编号:DPWD/2237/10/KG/26。此次认证的顺利通过,标志着信德…
20吨超纯水设备-预处理+双级RO+EDI+抛光混床工艺
2026
08-13

20吨超纯水设备-预处理+双级RO+EDI+抛光混床工艺

20t/h超纯水设备,从预处理到抛光混床全流程拆解。U-PVC超洁管道杜绝金属析出,电阻率18.25MΩ·cm,TOC≤1ppb,满足半导体高端制程用水需求。

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