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: 5g超纯水设备如何实现溶解氧＜5ppb？膜脱气+氮封+循环脱氧全解析

5G基站芯片、射频前端等精密制造，要求超纯水使用点溶解氧（DO）稳定低于5ppb（极致工艺＜1ppb）。常规RO+EDI+抛光混床无法深度脱氧，必须配置专业脱气单元。本文详解三大脱气技术：疏水性中空纤维膜脱气（主流，可达1~3ppb）、真空脱气塔、高纯氮气吹扫。提供完整工艺流程：预处理→二级RO→EDI→真空+氮气辅助膜脱气组→抛光混床→备用脱气膜→终端超滤→PVDF管路+在线旁路循环脱氧。关键设计：99.999%高纯氮气、30~50mbar真空、全域气密性、氮封储罐、痕量DO在线监测（±0.1ppb）。附日常运维要点（防复氧、膜维护、泵体气穴规避）。帮助5G制造企业选型超纯水设备，保障高频器件良率。

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