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: 超纯水设备经典工艺：双级RO+EDI+抛光混床，五大单元逐级提纯至18.2MΩ·cm

半导体/光伏/精密电子行业超纯水设备经典五级工艺全解析：①预处理（石英砂过滤器除悬浮物浊度＜1NTU+活性炭过滤器除余氯＜0.1ppm+软化器除硬度＜0.03mmol/L+5μm保安过滤器）→②双级RO（一级脱盐92%~98%，二级产水电导率＜5μS/cm）→③EDI（无酸碱连续除盐，出水电阻率15~18MΩ·cm，进水硬度＜0.5ppm、TOC＜0.2ppm）→④抛光混床（核级树脂，锁定18.2MΩ·cm，TOC＜10ppb，不可现场再生）→⑤0.22μm终端过滤器（拦截颗粒碎屑）。强调EDI进水硬性标准、抛光树脂不可再生、管路梯度材质（UPVC→不锈钢→316LEP→PVDF）。各单元分工明确，是工业超纯水领域通用性最强的标准方案。

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