电子级超纯水是半导体、微电子等高端制造业的“血液”，其纯度直接影响产品良率与性能。全球主流的三大标准体系为：中国 GB/T 11446.1-2013、美国 ASTM D5127-13(2018) 和 国际 SEMI F63-0921（及相关更新版本），以下是详细解析（均基于最新版本）。

一、中国国家标准：GB/T 11446.1-2013《电子级水》

1. 分级体系

该标准将电子级水分为 EW‑Ⅰ级、EW‑Ⅱ级、EW‑Ⅲ级、EW‑Ⅳ级 四个级别，级别越高纯度要求越严苛。

2. 核心技术指标（25℃）

核心技术指标（25℃）：EW‑Ⅰ级，电阻率≥18.2 MΩ·cm（5%时间≥17 MΩ·cm），总有机碳≤20 μg/L，全硅≤2 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤500 个/L，细菌总数≤0.01 CFU/mL，金属离子合计≤0.5 μg/L；EW‑Ⅱ级，电阻率≥15.0 MΩ·cm（5%时间≥13 MΩ·cm），总有机碳≤100 μg/L，全硅≤10 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤1000 个/L，细菌总数≤0.1 CFU/mL，金属离子合计≤5 μg/L；EW‑Ⅲ级，电阻率≥12.0 MΩ·cm，总有机碳≤200 μg/L，全硅≤50 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤5000 个/L，细菌总数≤100 CFU/mL，金属离子合计≤100 μg/L；EW‑Ⅳ级，电阻率≥0.5 MΩ·cm（5%时间≥0.4 MΩ·cm），总有机碳≤1000 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤50000 个/L，细菌总数≤100 CFU/mL，全硅、金属离子合计无强制规定。

3. 应用场景

• EW‑Ⅰ级：先进半导体制程（如14nm以下）、晶圆清洗、光刻工艺、ICP‑MS精密分析

• EW‑Ⅱ级：中高端半导体器件、显示面板、光伏电池生产

• EW‑Ⅲ级：普通电子元器件清洗、电子设备冷却

• EW‑Ⅳ级：基础电子工业生产、非关键清洗环节

二、美国材料与试验协会标准：ASTM D5127‑13(2018)

1. 分级体系

ASTM D5127‑13(2018) 将电子级水分为 Type Ⅰ、Type Ⅱ、Type Ⅲ 三级，其中 Type Ⅰ 为最高级别。

2. 核心技术指标（25℃）

核心技术指标（25℃）：Type Ⅰ级，电阻率≥18.2 MΩ·cm，总有机碳≤1 μg/L，硼≤0.05 μg/L，溶解氧≤10 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤0.05 个/mL，微生物≤0.001 CFU/mL；Type Ⅱ级，电阻率≥17.0 MΩ·cm，总有机碳≤50 μg/L，硼≤1.0 μg/L，溶解氧≤50 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤0.5 个/mL，微生物≤0.01 CFU/mL；Type Ⅲ级，电阻率≥10.0 MΩ·cm，总有机碳≤200 μg/L，硼≤10.0 μg/L，溶解氧≤100 μg/L，颗粒物（≥0.05μm）≤5.0 个/mL，微生物≤1.0 CFU/mL。